1700度二通道混气高真空CVD系统：二路质子混气系统和高真空机组

SGM1700度二通道混气高真空CVD系统是由洛阳西格马高温电炉研发生产的的二通道高真空CVD系统，1700度二通道混气高真空CVD系统是由二路质子混气系统和高真空机组组成，其工作温度可达1600℃，极限真空度可达 to 10^-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精度的混气，然后导入到管式炉内部。
洛阳西格马高温电炉可生产1200度二通道混气高真空CVD系统、1700度二通道混气高真空CVD系统、1200度双温区三通道混气高真空CVD系统、1200度三双温区三通道混气高真空CVD系统。

高真空CVD系统可配置选项：

温度：1200℃、1700℃
温区：单温区、双温区、三温区
炉型：开启式管式炉、滑轨式管式炉、可旋转管式炉（回转炉）
混气系统：双通道、三通道、四通道、五通道
流量计：浮子混球系统、质子混气系统
附件：进料系统

高真空CVD系统应用：

高真空CVD系统是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯、碳纳米管、碳化硅的专用设备,广泛应用于在半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。

1700度二通道混气高真空CVD系统技术参数

TF-1700度管式炉	壳体	1、采用双层壳体结构，并带有风冷，使得壳体表面的温度 < 55°C. 2、内炉膛表面涂有的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命 3、保温材料采用高纯氧化铝纤维，环保节能，减少热量的损失 4、真空泵和气体混合系统位于移动架上，方便移动 5、仪器上已经安装高真空法兰，阀门，高真空机组
	炉管	6、材质: 高纯氧化铝陶瓷管 7、一根高纯氧化铝陶瓷管已经安装在炉子上（标配尺寸） ( 60mm) O.D.x I.D. (54mm) x 1000mm Length （选配尺寸） ( 80mm) O.D.x I.D. (74mm) x 1000mm Length
	功率	6KW
	工作电压	AC 208-240V单相, 50/60Hz
	加热元件	8 根1800°C grade MoSi2 heating element
	工作温度	额定温度.: 1700°C 连续工作温度.: 1600°C
	升温速率	≤5°C/min
	加热区长度	加热区长度: 457 mm (18") 恒温区长度: 150 mm (6")(+/-1°C)注：由于测量手段及外部环境的影响，测量结果可能会有偏差，此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。您购买产品需要准确的恒温区数据，请与我公司销售人员联系
	温控系统	采用PID方式自动控制，并可设置30段升降温程序控温精度: ±1°C 控温仪表操作视频热电偶: B 型，已经安装在炉内
	真空法兰	一对不锈钢真空密封法兰已经安装法兰上带有一机械压力表两个精密针阀一个KF-25连接器和KF-25 转 KF-40 抽气接口一个1/4"卡套接头
	外形尺寸	550 x 380 x 520mm
高真空机组	功率	100~110W
	工作电压	AC 208-240V单相, 50/60Hz
	外形尺寸	600(L) x 600(W) x 700(H), mm
	壳体	壳体尺寸:600 (L) x 600 (W) x 700(H), mm 额定承载量:600 Lbs on top 分子泵控制面板:LCD 数字显示内装有一 Pfeiffer vacuum pump made in Germany:
	控制面板	一键操作：按下"start" 键后，隔膜泵和涡轮分子泵将会启动（隔膜泵先启动等真空度达到10-2mbar后，分子泵自动启动）系统控制旋转速率：根据腔体内的真空度，系统自动控制旋片泵的旋转速率
	抽气速率	N2 33 L/s He 39 L/s (2340L/minute) H2 32 L/s
	工作范围	1000 mbar to <1E-7 mbar
	极限	<1E-8 mbar (without any leaking )
MFC 质量流量控制器	壳体	采用 316不锈钢制作混气箱尺寸: Φ80X120mm 外形尺寸: 600(L) x 600(W) x 700(H), mm MFC控制面板 (Click to enlarge)，可根据客户要求定制
	功率	18W
	工作电压	AC 208-240V, 单相, 50/60Hz
质保期	一年质保期，相关耗材除外，如炉管，密封圈，等易耗件
可认证	CE 认证所有电器元件（>24V）都通过 UL / MET / CSA 认证