1100℃真空气氛管式炉有开启式和非开启式两种选择，多样化的搭配，满足实验室多种实验的要求，高纯石英管作为炉膛，洁净度高。可获得不同的真空，也可实现多种工艺气体控制。设备外形精巧美观，周边拓展性好，适合高校、科研院所实验之用。

电炉特点

● 工作温度范围：RT~1000°C。

●额外选配：炉内测量系统（氧含量测量系统、温度测量系统）；真空系统（旋片式机械泵、扩散泵机组、分子泵机组）；气氛系统（浮子流量计、质量流量计）；监控系统（温度记录仪、触摸屏远程监控）；

注：选件需配置拓展柜。

技术参数

注：其它管径、温区个数和加热区长度可根据客户工艺要求定制。

1100℃真空气氛管式炉

1100℃真空气氛管式炉是一种实验室用小型管式电阻炉，主要用于高温处理实验，适用于材料烧结、热处理、化学反应等。

1. 主要特点

- 温度范围：设计可达1100℃，满足多数高温实验需求。

- 真空与气氛控制：支持真空环境和多种气氛（如氮气、氩气），防止材料氧化或进行特定气氛下的反应。

- 管式设计：炉膛为管式，便于样品放置和取出，适合连续或批量处理。

- 精确控温：采用PID控温系统，温度控制精确，波动小。

- 安全保护：具备超温报警、断电保护等功能，确保实验安全。

2. 结构组成

- 炉管：通常为石英或刚玉材质，耐高温、耐腐蚀。

- 加热元件：采用电阻丝或硅碳棒，均匀加热。

- 控制系统：包括温控仪、热电偶等，实现精确控温。

- 真空系统：含真空泵和真空计，用于抽真空和监测真空度。

- 气氛控制系统：包括气瓶、流量计等，用于调节气氛。

3. 应用领域

- 材料科学：用于陶瓷、金属、复合材料的烧结与热处理。

- 化学研究：用于催化剂制备、气相沉积等化学反应。

- 纳米技术：用于纳米材料的合成与处理。

- 半导体：用于半导体材料的高温处理。

4. 操作步骤

1. 样品准备：将样品放入炉管。

2. 抽真空：启动真空泵，达到所需真空度。

3. 通入气氛：根据需要通入保护气体。

4. 加热：设定温度，启动加热程序。

5. 冷却：实验结束后，自然或强制冷却。

6. 取出样品：冷却后取出样品。

5. 注意事项

- 安全操作：避免高温烫伤，注意真空泵和气氛系统的安全使用。

- 定期维护：清洁炉管、检查加热元件和密封件。

- 正确使用：避免超温、超压操作，防止设备损坏。

6. 优势

- 多功能：支持真空和多种气氛，适应不同实验需求。

- 精确控温：PID控温，温度控制精准。

- 紧凑设计：体积小，适合实验室使用。

- 高可靠性：优质材料和设计，确保长期稳定运行。

1100℃真空气氛管式炉是实验室进行高温处理的高温电炉设备，具备精确控温、多功能和安全可靠等特点，广泛应用于材料、化学、纳米技术和半导体等领域。

该1100度高温管式炉为实验室用人工智能管式电阻炉，有单管管式炉、双管管式炉、卧式管式炉、可开启式管式炉、立式管式炉、回转式管式炉、滑动式管式炉、单温区管式炉、双温区管式炉、三温区管式炉、梯度管式炉等多种管式炉型。广泛用于真空或惰性气体保护状态下，新材料样品的烧结或退火。