1200度箱式真空气氛炉：500*400*400mm

箱式真空气氛炉以硅碳棒为加热元件，采用控温系统，可控硅控制；炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，保温效果好；双层壳体结构，带有风冷和水冷系统，能快速降温，炉门可配水冷，以防密封圈过快老化，保证炉门与炉胆的可靠密封。

主要用途：

该箱式真空气氛炉可应用于正负极材料的真空气氛条件下的热处理工艺。也用于高等院校及科研部门、工矿企业电子陶瓷产品的预烧、烧结等工艺。

主要功能特点：

1、加热元件采用硅碳棒，炉膛采用氧化铝砖与多晶纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，大大提高了使用寿命；

2、可抽真空，并能通入多种保护气氛（易燃易爆、有毒有害、强腐蚀性气体除外）；

3、超压自动泄压，高温报警并断电，漏电保护，操作方便；

4、可选配通过触摸屏操作、温控系统进行程序控制，操作简单，准确无误。

主要技术参数：

电炉名称：1200度箱式气氛炉

炉膛尺寸：500*400*400mm

设计温度：1200℃

工作温度：1000℃

升温速率：1-15℃/min

控温精度：±1C

真空度：优于0.098Mpa，标配数显真空计≤500Pa

测温元件：N型热电偶

气压安全：泄压阀

可选配置：液晶触摸屏、无纸记录仪、尾气燃烧装置等。